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【專利號(申請?zhí)?】96121230.6
【公開(公告)號】CN1156189
【申請人(專利權)】周慶業(yè)，姜杰
【申請日期】1996-11-15 0:00:00
【公開(公告)日】1997-8-6 0:00:00
本發(fā)明涉及化學鍍鎳裝置。對金屬制件內(nèi)腔化學鍍鎳，采用清洗和鍍鎳兩套循環(huán)裝置配合，即前處理循環(huán)裝置和鍍鎳循環(huán)裝置。解決了管式金屬內(nèi)腔化學鍍鎳穩(wěn)定性差，鍍層質(zhì)量難控制的問題。本發(fā)明不僅可控制鍍速和施鍍溫度，也解決了鍍液更新和氣體排放問題，保證了鍍層質(zhì)量。該工藝設備及操作簡單，適用于工業(yè)化作業(yè)，可廣泛用于航天、石油、化工、電子和計算機等行業(yè)。
