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【專利號(申請?zhí)?】200410064089.4
【公開(公告)號】CN1573938
【申請人(專利權(quán))】TDK株式會社
【申請日期】2004-5-21 0:00:00
【公開(公告)日】2005-2-2 0:00:00
在絕緣薄膜上形成一電鍍底基層。在電鍍底基層上形成抗反射膜。在抗反射膜62上形成光刻膠光刻膠。曝光和顯影光刻膠和抗反射膜，以便形成由其制造的抗蝕性阻織。在由抗蝕性組織包圍的內(nèi)部圖案中形成第二磁性層。抗反射膜由經(jīng)過曝光對于顯影劑可溶解的物質(zhì)組成。
