【專利號(申請?zhí)?】02815289.1
【公開(公告)號】CN1639386
【申請人(專利權(quán))】以利沙控股有限公司
【申請日期】2002-8-2 0:00:00
【公開(公告)日】2005-7-13 0:00:00
本發(fā)明涉及一種在金屬或?qū)w表面形成一沉淀層的方法。該方法采用一種無電鍍的加工方法以在金屬或?qū)щ娦员砻娉恋矶纬梢缓泄杷猁}的鍍層或膜。【專利號(申請?zhí)?】02815289.1
【公開(公告)號】CN1639386
【申請人(專利權(quán))】以利沙控股有限公司
【申請日期】2002-8-2 0:00:00
【公開(公告)日】2005-7-13 0:00:00
本發(fā)明涉及一種在金屬或?qū)w表面形成一沉淀層的方法。該方法采用一種無電鍍的加工方法以在金屬或?qū)щ娦员砻娉恋矶纬梢缓泄杷猁}的鍍層或膜。