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【專利號(申請?zhí)?】98118622.X
【公開(公告)號】CN1245837
【申請人(專利權(quán))】古爾德電子有限公司
【申請日期】1998-8-21 0:00:00
【公開(公告)日】2000-3-1 0:00:00
在一實施方案中，本發(fā)明涉及一種處理金屬箔的方法，它按順序包括：使金屬箔與酸性溶液接觸；將金屬箔置于鎳處理浴中并對該鎳處理浴通電，其中鎳處理浴包含至少約兩個的電鍍區(qū)，約１－約５０g/l的銨鹽，和約１０～約１００g/l的鎳化合物；和將鎳光亮層鍍到金屬箔上。在另一實施方案中，本發(fā)明涉及一種按照上述方法處理的金屬箔。
