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集成電路元件及其制造方法和承載集成電路元件的信息載體及其制造方法.pdf

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2008-01-03??瀏覽次數(shù):299 ??關(guān)注:加關(guān)注
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【專利號(hào)(申請(qǐng)?zhí)?】00805256.5

【公開(公告)號(hào)】CN1520612

【申請(qǐng)人(專利權(quán))】日立馬庫(kù)塞魯株式會(huì)社

【申請(qǐng)日期】2000-2-23 0:00:00

【公開(公告)日】2004-8-11 0:00:00

一種搭載將線圈一體形成的IC元件的通信距離更大的信息載體和其制造方法,以及適合這種信息載體的IC元件的結(jié)構(gòu)和其制造方法。IC元件中,形成使構(gòu)成線圈3的導(dǎo)體具有金屬濺射層或金屬鍍敷層6及金屬電鍍7的多層構(gòu)造。作為金屬電鍍層7的形成方法的IC元件的制造方法使用精密電鑄法。信息載體具有將IC元件1配置在基體21的平面方向的中心部的結(jié)構(gòu)。信息載體的制造方法包括在帶狀基材4145的某一個(gè)上制作包括IC元件所需的搭載部件,接著從該帶狀基材中沖切形成所需的信息載體20a20h

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