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4 結(jié)論
(1)在氟硼酸鹽體系中，各工藝參數(shù)對電沉積因瓦合金鍍層中鐵含量的影響差異比較明顯，尤其是陰極旋轉(zhuǎn)速率，說明鐵的電沉積受擴散的影響較大：而在實驗條件范圍內(nèi)，陰極電流效率的變化幅度基本穩(wěn)定在士4％。
(2)確定了制備因瓦合金箔的最佳工藝參數(shù)為： c(Fe2+)=0．15 mol／L，v(陰極旋轉(zhuǎn))=600～900 r／min， PH=2．5～3．0，θ=45～
(3)在最佳工藝條件下得到了平整光亮、致密、柔韌性好、含鐵量為62％～66％的因瓦合金箔。
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[編輯：沮靖邦]
氟硼酸鹽體系電沉積因瓦合金箔的工藝研究：結(jié)果與討論（二）
氟硼酸鹽體系電沉積因瓦合金箔的工藝研究：結(jié)果與討論（三）
氟硼酸鹽體系電沉積因瓦合金箔的工藝研究：結(jié)果與討論（四）
氟硼酸鹽體系電沉積因瓦合金箔的工藝研究：結(jié)果與討論（五）
