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鍍鉻的后處理:除氫

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2011-11-09??瀏覽次數(shù):1858 ??關(guān)注:加關(guān)注
核心提示:鍍鉻的后處理:除氫

    除氫處理的目的是降低鉻鍍層的脆性和去除基體金屬的氫脆。同時,希望盡可能使鉻層的硬度不受影響。

    除氫應(yīng)在電鍍之后,盡快在油、烘箱或真空中進行。去氫的溫度約l00300℃,常用溫度為180,過高的溫度會使鍍層變軟。例如某鍍鉻200處理l5min后,硬度HV812600℃l5min后,HV473980℃l5minHV258

    凡是鍍鉻前硬度≥40HRC的基體,鍍后必須盡快除氫,在(200±5)℃的烘箱或油浴中至少除氫3h.鍍前硬度≥55HRC的基體,鍍后除氫溫度要降到(150±5)℃,除氫時間要適當(dāng)延長。

    用油浴除氫時,零件最好先在烘箱中預(yù)熱到80C,然后放入80C油浴,再升溫至除氫溫度,以避免驟然升溫使鍍層開裂甚至脫落。

小零件可在真空烘箱中180℃下除氫,時間只要30min

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