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機(jī)械拋光件直接陽極氧化后為何不能獲得光亮表面?

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2011-09-26??瀏覽次數(shù):432 ??關(guān)注:加關(guān)注
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有研究者認(rèn)為,拋光是金屬?gòu)耐固幰频桨继帲纬蔁o定形層,或很細(xì)的金屬晶體層;也有研究者用電子顯微鏡的研究證實(shí),拋光表面的外層被粉碎成不規(guī)則的,很細(xì)的結(jié)晶狀態(tài),等等。而化學(xué)拋光和電化學(xué)拋光的反應(yīng)機(jī)理的簡(jiǎn)單說法是:對(duì)鋁或鋁合金制件的微觀凹凸不平的表面組織(包括金屬鋁成分)進(jìn)行選擇性的溶解,來有效地整平和拋光制件表面,從而提高其表面光潔度。因而對(duì)鋁及其合金來說,機(jī)械拋光雖能獲得平整度,卻不能獲得類似化學(xué)或電化學(xué)拋光的光亮度。為此機(jī)械拋光后直接進(jìn)行陽極氧化所獲的膜層是無金屬光澤的,甚至比不上未經(jīng)機(jī)械拋光部位,猶如搪瓷、油漆層。

 

機(jī)械拋光雖然不能替代化學(xué)拋光和電化學(xué)拋光,但化學(xué)拋光、電化學(xué)拋光之前先經(jīng)機(jī)械拋光還是十分必要的,材料表面的劃痕等損傷部位如未經(jīng)機(jī)械拋光,在化學(xué)或電化學(xué)拋光工序中是無法除去的。

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