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在離子鍍過程中，離子對工件表面的轟擊產(chǎn)生一系列物理現(xiàn)象和化學(xué)反應(yīng)，它們對離 子氣相沉積的過程和結(jié)果有非常重要的影響。這些現(xiàn)象和反應(yīng)主要如下。
(1)二次電子發(fā)射。離子轟擊陰極引起的二次電子發(fā)射是維持放電的必要條件。
(2）氣體的解析。離子轟擊陰極表面，首先會將工件表面上吸附的氣體濺射掉或熱解析出來。這個效應(yīng)無疑對鍍面起了有效的凈化作用。離子轟擊陰極表面時相當(dāng)一部分能量 轉(zhuǎn)化為熱能，使工件表面被加熱，從而促進了離子鍍過程中膜層原子向基體的擴散，并有利于提高膜層與基體的結(jié)合強度。
（3）陰極濺射。高能離子轟擊陰極表面，將會使陰極表面上一些中性原于或分子被濺出。這在離子鍍中表現(xiàn)為與沉積的同時，將有部分膜層原子被轟擊下來，即出現(xiàn)了 “反濺 射”現(xiàn)象。
