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BSn-2004啞光錫電鍍工藝

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2013-02-01??瀏覽次數(shù):1013 ??關注:加關注
核心提示:BSn-2004啞光錫電鍍工藝啞光錫BSn-2004是針對無鉛電鍍鍍層所開發(fā)的一種無氟硼酸和硫酸的甲基磺酸鹽型鍍錫液。該工藝能沉積出較傳

BSn-2004啞光錫電鍍工藝

啞光錫BSn-2004是針對無鉛電鍍鍍層所開發(fā)的一種無氟硼酸和硫酸的甲基磺酸鹽型鍍錫液。該工藝能沉積出較傳統(tǒng)電鍍無法達到的大晶粒且結構穩(wěn)定的鍍層,沉積出的錫晶粒大小為3-8微米范圍內(nèi),這種結構能夠減少晶須的形成。

BSn-2004啞光錫電鍍工藝所得鍍層具有良好的覆蓋能力,結晶細致均勻,而且鍍層中含碳量非常低,鍍件長期貯存不易變色,并能保持優(yōu)異的焊接性,該純錫工藝制別適用IC、PC板和半導體等器件的釬焊性鍍層,

BSn-2004啞光純錫電鍍工藝具有如下優(yōu)勢:

1. 適應當前市場的無鉛環(huán)保要求;

2.卓越的耐晶須生長性;

3.優(yōu)異的焊錫性;

4.鍍液穩(wěn)定、維護簡單,消耗量少;

鍍液組成

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