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直接化學(xué)鍍鎳工藝方法對鎳層表面形態(tài)的影響(二)

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2012-12-10??瀏覽次數(shù):840 ??關(guān)注:加關(guān)注
核心提示:三、結(jié)果和觀察3.1選擇性析出的比較對PGA基板上的圖形經(jīng)過催化程序后的化學(xué)鍍鎳,化學(xué)鍍鎳完成后對其表面進(jìn)行觀察。使用鈀催化液

3.3 化學(xué)鍍鎳層的狀態(tài)

上述采用了不同的工藝方法,焊接強度測定結(jié)果也不相同。而焊接強度發(fā)生差別的要因應(yīng)仔細(xì)研究。

鍍后的評價基板表面金層被溶解,化學(xué)鍍鎳層露出,其表面形態(tài)用SEM進(jìn)行觀察。觀察的結(jié)果見圖3所示。在采用鈀作為催化劑時,化學(xué)鍍鎳層在盤直徑上沉積厚度約4-5μm的類似球狀析出,見圖3-a所示。采用直接鍍覆工藝方法適用的情況下,直徑為2μm程度的均勻的微小的類似球狀構(gòu)成的鍍層表面形態(tài)見圖3-b所示。

 

 

置換金的處理,鎳會在處理過程中產(chǎn)生溶解,以使金沉積析出,而鎳層的表層溶出的磷不會很多,還有殘存物,因此,在焊料焊接時焊接強度差是由于金層與鎳層界面附近的狀態(tài)有關(guān)系,通過AES分析是鎳金層在深的方向觀察到的情況。AES分析的深的曲線圖見圖4所示。

 

 

金鍍層和鎳層界面附近(焊接時間約5分鐘)鍍層深度方向氧的檢出峰值比較。使用鈀作催化劑的工藝方法所獲得的鍍層檢出的氧較多,而采用直接鍍覆的工藝方法鎳的氧化反應(yīng)就可以。還有,僅在金鎳層界面部分會產(chǎn)生富磷層。所以,適用于鈀作催化劑的工藝方法情況下,金鍍層中的過剩鎳的溶解是由鎳表層產(chǎn)生氧化反應(yīng),局部腐蝕鎳的表面同時也就能判斷金表鎳表面的析出。

其次,鍍覆工藝方法的不同,化學(xué)鍍鎳的鍍層的形態(tài)也會受到影響,鍍覆初期階段表面形態(tài)經(jīng)過AFM的比較和觀察,就能判斷表面形態(tài)是不同的,試驗基板的銅是0.5μm,是使用蒸發(fā)的方法在晶片基板上形成的。然后進(jìn)行化學(xué)鍍鎳,鍍鎳前、3秒后和5秒后的鍍層的表面形態(tài),使用觀察3μm×3μm范圍內(nèi)的結(jié)果見圖5所示。

 

 

使用鈀作為催化劑的工藝條件下,催化處理后表面狀態(tài),觀察直徑為50-100nm表面突起的比較多,而這些凸起的鎳鍍層會繼續(xù)成長,表面的粗糙度增加,并且觀察到未處理的部分基板平均表面粗糙度Ra=2.58nm與鍍5秒后的鍍層表面粗糙度比Ra=7.16nm而增加。而采用直接化學(xué)鍍鎳的工藝方法而產(chǎn)生的突起鍍5秒后其Ra=3.26nm。所以采取直接鍍覆的工藝方法,鍍覆的初期鎳層形成薄而均勻的表面。

在采用鈀作催化劑的工藝方法的條件下,表面吸附著的鈀核形成中心,鎳?yán)^續(xù)析出,鎳層的表面粗糙度增加。而采用直接化學(xué)鍍的工藝方法的條件下,以DMAB的還原作用使鎳均勻的在銅導(dǎo)體表面析出,化學(xué)鍍鎳過程中的集中化學(xué)反應(yīng)形成平滑而均勻的鎳層。

適用于以鈀作催化劑的情況下,化學(xué)鍍鎳的初期析出的表面就比較粗糙,最終鍍鎳層表面形成類似球狀的情況比較多。化學(xué)鍍鎳的過程中,這些類似球狀的粒界面進(jìn)行鎳的氧化反應(yīng),過剩的鎳就會溶解和腐蝕。由于鎳層表面的腐蝕進(jìn)行,焊料焊接性能惡化,焊接的接合強度降低。而對于直接采用直接化學(xué)鍍工藝方法,形成致密而平滑的鎳層,而過剩的鎳粒界面的腐蝕受到抑制,因此其焊料焊接的接合強度增加。

3.4浸漬電位的變化

用鈀作催化劑的工藝方法和直接化學(xué)鍍工藝方法在初期階段鎳的析出狀態(tài)是不同的。化學(xué)鍍的初期階段,電極表面電位的發(fā)生是不相同的。銅板經(jīng)過兩種工藝方法處理后,在化學(xué)鍍鎳溶液中浸漬,浸漬時間內(nèi)對電位進(jìn)行測定。測量的結(jié)果見圖6所示。

 

 

對于使用鈀作催化劑的情況下,其電位會徐徐降低,由于電位的變化引起鎳的析出。這是由于電極的表面有鈀核,在周邊的鎳會開始優(yōu)先析出,由于反應(yīng)急劇鎳不斷析出覆蓋全部。

直接化學(xué)鍍的情況下,鎳核的析出,浸漬初期的電位要比用鈀催化劑要平穩(wěn)的多。而且鎳的析出電位相差的少,析出的鎳層表面平滑。

由于浸漬電位的變化,鎳的初期析出狀態(tài)是不同的,通過試驗進(jìn)一步確定之。

四、結(jié)論

通過試驗焊料焊接用的基板對采用直接化學(xué)鍍工藝方法的有效性并獲得以下結(jié)果:

①采用DMAB作為直接化學(xué)鍍鎳液的還原劑,配線間樹脂層上析出受到抑制,因此微細(xì)配線基板進(jìn)行選擇性析出性能良好。

②直接化學(xué)鍍工藝方法與用鈀作催化處理的工藝方法形成的鍍層的基板相比較,焊料焊接強度獲得改善。

③用鈀作為催化劑情況下,鈀形成的催化中心的析出其結(jié)晶成長的不均一而形成比較多的類似球狀的結(jié)構(gòu)鍍層。而采用直接化學(xué)鍍工藝方法的情況下,銅導(dǎo)體表面形成均勻的薄鎳層,所形成的鍍層表面平滑。因此兩種工藝方法初期析出狀態(tài)的不同,而直接影響焊料焊接性能,實際選擇時需要仔細(xì)考慮。

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