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IBS60-Ⅰ型離子束濺射鍍膜機是近年出現(xiàn)的一種采用新型鍍膜方法的設(shè)備。它是薄膜制備的先進設(shè)備之一。薄膜結(jié)構(gòu)緊密、附著力強，目前大量應(yīng)用于電子學(xué)、材料科學(xué)、光學(xué)、精密加工等領(lǐng)域的科研和生產(chǎn)中。用該機制備的軟X射線多層膜周期準確、界面清楚。單反應(yīng)室采用圓形結(jié)構(gòu)，備有4個靶位，90°可隨意轉(zhuǎn)。單靶位面積110×90mm<’2>，襯底可裝夾φ10～80mm被鍍基片，采用(KAUFMAN)離子源。極限真空度2×10<’-4>Pa，工作真空度10<’-2>～10<’-4>Pa連續(xù)可調(diào)。離子流均勻性≤5%，連續(xù)工作100小時(1～數(shù)A/分)，電源穩(wěn)定性相對變化量小于0.5%，離子槍工作電壓0.1～1.6kV連續(xù)可調(diào)。引出棚直徑φ60mm。
完成單位：中國科學(xué)院沈陽科學(xué)儀器研究中心 中國科學(xué)院長春光學(xué)機械研究所
郵政編碼：110003
成果類別：應(yīng)用技術(shù)
成果水平：國內(nèi)先進
限制使用：國內(nèi)
成果密級：非密
鑒定日期：19911127
應(yīng)用行業(yè)：自然科學(xué)研究與試驗發(fā)展 電子器件制造
轉(zhuǎn)讓方式：提供技術(shù)培訓(xùn),出售產(chǎn)品
分類號：O484.1、TN305.92
