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該設(shè)備主泵采用分子泵和水冷鈦升華泵，可獲得潔凈無(wú)油的工作真空。蒸發(fā)源采用束偏轉(zhuǎn)角270°的雙坩堝電子束蒸發(fā)器，避免了燈絲對(duì)膜層特性的影響。工件裝置于球面式公轉(zhuǎn)與自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)上，可獲得均勻性好的膜層，并附有石英晶體振蕩薄膜厚度測(cè)量?jī)x可對(duì)膜層厚度進(jìn)行監(jiān)控等優(yōu)點(diǎn)。該機(jī)是供大規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體器件真空蒸鍍鋁電極及蒸鍍易熔、難熔金屬的專用設(shè)備。
完成單位：國(guó)營(yíng)第七○八廠
郵政編碼：610061
成果類別：應(yīng)用技術(shù)
成果水平：國(guó)內(nèi)先進(jìn)
限制使用：國(guó)內(nèi)
成果密級(jí)：非密
鑒定日期：19850400
應(yīng)用行業(yè)：電子器件制造
鑒定部門(mén)：電子部
分類號(hào)：TN305.8
關(guān)鍵詞：鍍膜機(jī) 半導(dǎo)體器件 大規(guī)模集成電路 高真空 真空 鍍膜
