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印制線路板電鍍楣工藝方法簡介(下)

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2012-11-27??瀏覽次數:611 ??關注:加關注
核心提示:5、鍍液的維護a)溫度不同的鎳工藝,所采用的鍍液溫度也不同。溫度的變化對鍍鎳過程的影響比較復雜。在溫度較高的鍍鎳液中,獲得

5、鍍液的維護

a)溫度——不同的鎳工藝,所采用的鍍液溫度也不同。溫度的變化對鍍鎳過程的影響比較復雜。在溫度較高的鍍鎳液中,獲得的鎳鍍層內應力低 ,延展性好,溫度加致50度C時鍍層的內應力達到穩(wěn)定。一般操作溫度維持在55--60度C。如果溫度過高,將會發(fā)生鎳鹽水解,生成的氫氧化鎳膠體使膠體氫氣泡滯留,造成鍍層出現針孔,同時還會降低陰極極化。所以工作溫度是很嚴格的 ,應該控制在規(guī)定的范圍之內,在實際工作中是根據供應商提供的最優(yōu)溫控值 ,采用常溫控制器保持其工作溫度的穩(wěn)定性。

b)PH值——實踐結果表明,鍍鎳電解液的PH值對鍍層性能及電解液性能影響極大。在PH≤2的強酸性電鍍液中,沒有金屬鎳的沉積,只是析出輕氣 。一般PCB鍍鎳電解液的PH值維持在3—4之間 。PH值較高的鍍鎳液具有較高的分散力和較高的陰極電流效率。但是PH過高時,由于電鍍過程中陰極不斷地析出輕氣,使陰極表面附近鍍層的PH值升高較快,當大于6時,將會有輕氧化鎳膠體生成,造成氫氣泡滯留,使鍍層出現針孔。氫氧化鎳在鍍層中的夾雜 ,還會使鍍層脆性增加。PH較低的鍍鎳液,陽極溶解較好,可以提高電解液中鎳鹽的含量,允許使用較高的電流密度,從而強化生產。但是PH 過低 ,將使獲得光亮鍍層的溫度范圍變窄。 加入碳酸鎳或堿式碳酸鎳,PH值增加 ;加入氨基磺酸或硫酸,PH值降低,在工作過程中每四小時檢查調整一次PH值。

c)陽極——目前所能見到的PCB常規(guī)鍍鎳均采用可溶性陽極 ,用鈦籃作為陽極內裝鎳角已相當普遍。其優(yōu)點是其陽極面積可做得足夠大且不變化,陽極保養(yǎng)比較簡單 。鈦籃應裝入聚丙烯材料織成的陽極袋內防止陽極泥掉入鍍液中。并應定期清洗和檢查孔眼是否暢通。新的陽極袋在使用前,應在沸騰的水中浸泡。

d)凈化——當鍍液存在有機物污染時,就應該用活性炭處理。但這種方法通常會去除一部分去應力劑(添加劑),必須加以補充。其處理工藝如下:

(1)取出陽極,加除雜水5ml/l,加熱(60—80度C)打氣(氣攪拌)2小時。

(2)有機雜質多時,先加入3—5ml/lr的30%雙氧水處理,氣攪拌3小時。

(3)將3—5g/l粉末狀活性在不斷攪拌下加入,繼續(xù)氣攪拌2小時,關攪拌靜置4小時,加助濾粉使用備用槽來過濾同時清缸。

(4)清洗保養(yǎng)陽極掛回,用鍍了鎳的瓦楞形鐵板作陰極,在0.5—0.1安/平方分米的電流密度下進行拖缸8—12小時(當鍍液存在無機物污染影響質量時,也常采用)。

(5)換過濾芯(一般用一組棉芯一組碳芯串聯(lián)連續(xù)過濾,按周期性便換可有效延期大處理時間,提高鍍液的穩(wěn)定性),分析調整各參數、加入添加劑潤濕劑即可試鍍。

e)分析——鍍液應該用工藝控制所規(guī)定的工藝規(guī)程的要點,定期分析鍍液組分與赫爾槽試驗,根據所得參數指導生產部門調節(jié)鍍液各參數。

f)攪拌——鍍鎳過程與其它電鍍過程一樣 ,攪拌的目的是為了加速傳質過程,以降低濃度變化,提高允許使用的電流密度上限。對鍍液進行攪拌還有一個十分重要的作用,就是減少或防止鍍鎳層產生針孔。因為,電鍍過程中,陰極表面附近的鍍離子貧乏,氫氣的大量析出 ,使PH值上升而產生氫氧化鎳膠體,造成氫氣泡的滯留而產生針孔。加強對留鍍液的攪拌,就可以消除上述現象。常用壓縮空氣、陰極移動及強制循環(huán)(結合碳芯與棉芯過濾)攪拌。

g)陰極電流密度——陰極電流密度對陰極電流效率、沉積速度及鍍層質量均有影響。測試結果表明,當采用PH較底的電解液鍍鎳時,在低電流密度區(qū),陰極電流效率隨電流密度的增加而增加;在高電流密度區(qū),陰極電流效率與電流密度無關,而當采用較高的PH電鍍液鎳時,陰極電流效率與電流密度的關系不大。

與其它鍍種一樣,鍍鎳所選取的陰極電流密度范圍也應視電鍍液的組分、溫度及攪拌條件而定,由于PCB拼板面積較大,使高電流區(qū)與低電流區(qū)的電流密度相差很大,一般采用2A/dm2為宜。

6、故障原因與排除

a) 麻坑:麻坑是有機物污染的結果。大的麻坑通常說明有油污染。攪拌不良,就不能驅逐掉氣泡,這就會形成麻坑。可以使用潤濕劑來減小它的影響,我們通常把小的麻點叫針孔,前處理不良、有金屬什質、硼酸含量太少、鍍液溫度太低都會產生針孔,鍍液維護及工藝控制是關鍵,防針孔劑應用作工藝穩(wěn)定劑來補加。

b) 粗糙、毛刺 :粗糙就說明溶液臟,充分過濾就可糾正(PH太高易形成氫氧化物沉淀應加以控制)。電流密度太高 、陽極泥及補加水不純帶入雜質,嚴重時都將產生粗糙及毛刺。

c) 結合力低:如果銅鍍層未經充分去氧化層,鍍層就會剝落現象,銅和鎳之間的附著力就差 。如果電流中斷 ,那就將會在中斷處 ,造成鎳鍍層的自身剝落,溫度太低嚴重時也會產生剝落。

d) 鍍層脆、可焊性差:當鍍層受彎曲或受到某種程度的磨損時,通常會顯露出鍍層脆。這就表明存在有機物或重金屬什質污染,添加劑過多、夾帶的有機物和電鍍抗蝕劑,是有機物污染的主要來源,必須用活性炭加以處理,添加濟不足及PH過高也會影響鍍層脆性。

e) 鍍層發(fā)暗和色澤不均勻 :鍍層發(fā)暗和色澤不均勻,就說明有金屬污染。因為一般都是先鍍銅后鍍鎳,所以帶入的銅溶液是主要的污染源。重要的是 ,要把掛具所沾的銅溶液減少到最低程度。為了去除槽中的金屬污染 ,尤其是去銅溶液應該用波紋鋼陰極,在2~5安/平方英尺的電流密度下,每加侖溶液空鍍5安培一小時。前處理不良、低鍍層不良、電流密度太小、主鹽濃度太低、電鍍電源回路接觸不良都會影響鍍層色澤。

f) 鍍層燒傷 :引起鍍層燒傷的可能原因:硼酸不足,金屬鹽的濃度低、工作溫度太低、電流密度太高、PH太高或攪拌不充分。

g) 淀積速率低: PH值低或電流密度低都會造成淀積速率低。

h) 鍍層起泡或起皮:鍍前處理不良、中間斷電時間過長、有機雜質污染 、電流密度過大、溫度太低、PH太高或太低、雜質的影響嚴重時會產生起泡或起皮現象。

I)陽極鈍化:陽極活化劑不足,陽極面積太小電流密度太高。

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