微電子設備內(nèi)鈷和鎳的化學鍍覆

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核心提示：公開號 101080280公開日 20071128申請人恩索恩公司地址美國康耐提格州一種在微電子設備制造中金屬基層上鍍覆鈷、鎳及其合金的

公開號 101080280

公開日 20071128

申請人恩索恩公司

地址美國康耐提格州

一種在微電子設備制造中金屬基層上鍍覆鈷、鎳及其合金的化學鍍覆方法和組合物，包含一種選自鈷離子和鎳離子的沉積離子源，和一種在基層上將沉積離子還原為金屬的還原劑，以及一種肼基均化劑。

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