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所謂滾鍍型霍爾槽是為了彌補(bǔ)標(biāo)準(zhǔn)霍爾槽不能做滾鍍液的試驗(yàn)的缺憾而設(shè)計(jì)的一種新型霍爾槽，它是利用霍爾槽陰極區(qū)的角形特征，將標(biāo)準(zhǔn)的霍爾槽試片從中間做60。角的彎折后，在圓形試驗(yàn)槽中旋轉(zhuǎn)著進(jìn)行電鍍(參見(jiàn)圖6—7)一定時(shí)間后，取出試片展開(kāi)看其鍍層分布情況。
滾鍍?cè)囼?yàn)設(shè)備;采用這種試驗(yàn)設(shè)備做滾鍍?cè)囼?yàn)，可以仿照霍爾槽的原理在一個(gè)試片上獲取不同電流密度區(qū)的鍍層情況。試驗(yàn)時(shí)電鍍的時(shí)間可以在10～15min之間，有些鍍種可能會(huì)更短一些。試驗(yàn)完成后，將試片展開(kāi)(如圖6—8)
展開(kāi)后的滾鍍霍爾槽的試片示意;后觀測(cè)，彎角線處是電流密度最低處，有些鍍種在這里會(huì)沒(méi)有鍍層析出，而大部分鍍種這里的鍍層與標(biāo)準(zhǔn)霍爾槽試片一樣，呈現(xiàn)低電流區(qū)鍍層的特點(diǎn)。
