電沉積因瓦合金鍍層成分的影響因素

摘要：采用電沉積方法在硫酸鹽體系中制得了Fe-Ni合金鍍層。研究了Fe²⁺與Ni²⁺的摩爾比、氯化亞鈰濃度、抗壞血酸濃度、鍍液溫度、pH、陰極電流密度和電沉積時(shí)間對(duì)鍍層鐵含量的影響規(guī)律，確定了適宜電沉積因瓦合金的最佳工藝條件，并采用EDS，XRD和TEM對(duì)所得鍍層進(jìn)行了分析。驗(yàn)證性實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明，制備的鍍層具有與因瓦合金相似的成分，其Fe和Ni質(zhì)量分?jǐn)?shù)分別為61.8%～62.1%和37.9%～38.1%，它是由單一的納米晶γ固溶體組成。

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