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摘要：將分形幾何與電化學(xué)原理相結(jié)合，以Microsoft Visual C++6.0為平臺(tái)，編程模擬了電解質(zhì)濃度對(duì)點(diǎn)電極電沉積和噴射電沉積中枝晶分形生長(zhǎng)的影響。采用圓形電解池點(diǎn)電極電沉積的方法，制備了不同濃度下的金屬鎳枝晶；以平行板金屬鎳為陽(yáng)極，石墨板為陰極，用自行設(shè)計(jì)的試驗(yàn)設(shè)備研究了不同濃度時(shí)金屬鎳枝晶二維電沉積生長(zhǎng)的行為特性，并分別與模擬結(jié)果進(jìn)行比較。結(jié)果表明，電解質(zhì)濃度變化對(duì)電沉積的影響與采用模型模擬所得的結(jié)果具有相似性，模擬的結(jié)果對(duì)電沉積枝晶的試驗(yàn)研究具有很好的指導(dǎo)意義，氣泡對(duì)沉積產(chǎn)物的形貌影響顯著。
