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液位選擇電鍍的回流裝置

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核心提示:公開號(hào) 201172695公開日 20081231申請(qǐng)人 蘇騫地址 廣東省深圳市福田區(qū)福中路天健世紀(jì)花園1棟28A本實(shí)用新型公開了一種液位選擇電

公開號(hào) 201172695

公開日 20081231

申請(qǐng)人 蘇騫

地址 廣東省深圳市福田區(qū)福中路天健世紀(jì)花園1棟28A

本實(shí)用新型公開了一種液位選擇電鍍的回流裝置,包括在儲(chǔ)液缸上方設(shè)置的電鍍槽,電鍍槽側(cè)面設(shè)有回流端板,電鍍槽至少一側(cè)的回流端板頂部設(shè)有回流斜面。該液位選擇電鍍的回流裝置回流速度快,可提高電鍍液的電流密度,液面波動(dòng)小。

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