ZFS共沉積促進(jìn)劑在復(fù)合電沉積過(guò)程中的作用機(jī)理

摘要：將陽(yáng)離子型 ZFS促進(jìn)劑與 SiO₂微粒加入 Zn-Fe合金鍍液中,制備了 Zn-Fe-SiO₂復(fù)合鍍層,研究了 ZFS 共沉積促進(jìn)劑對(duì)鍍層中SiO₂微粒沉積量的影響,并分析了促進(jìn)劑的作用機(jī)理。結(jié)果表明: ZFS共沉積促進(jìn)劑可以明顯提高 SiO₂微粒在鍍層中的沉積量,并且無(wú)需對(duì) SiO₂微粒進(jìn)行鍍前特殊處理。其原因是該促進(jìn)劑吸附在 SiO₂ 微粒表面,使微粒表面呈正電性,在電場(chǎng)引力的作用下,SiO₂微粒容易吸附在陰極表面并與還原金屬實(shí)現(xiàn)復(fù)合共沉積。

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