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摘要：對脈沖陰極電沉積與恒電位陰極電沉積制備的經(jīng)基磷灰石涂層膜進(jìn)行了對比實(shí)驗(yàn)。結(jié)果表明:由于脈沖電沉積的一個(gè)關(guān)斷時(shí)間使離子得以從溶液本體向電極表面擴(kuò)散,在下一脈沖來臨時(shí)濃差極化的減小有利于HAP的生長;在一定的導(dǎo)通時(shí)間下,關(guān)斷時(shí)間的延長有利于輕基磷灰石的沉積,但時(shí)間的過度延長不利于輕基磷灰石的沉積;當(dāng)通電時(shí)間為5s時(shí),其最佳關(guān)斷時(shí)間為2s;沉積時(shí)陰極極化的增強(qiáng)雖有利于膜的生長,但極化過于強(qiáng)烈(陰極電位為-1.0v(vsSCE)時(shí),涂層易脫落。
