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鍍層的孔隙是指鍍層表面直至基體金屬的細(xì)小孔道。鍍層孔隙率反映了鍍層表面的致密程度，孔隙率大小直接影響防護(hù)鍍層的防護(hù)能力(主要是陰極性鍍層)。作為特殊性能要求的鍍層(如防滲碳、氮化等)，孔隙率測(cè)量也極為重要，它是衡量鍍層質(zhì)量的重要指標(biāo)。國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)GB 5935規(guī)定了測(cè)定鍍層孔隙的方法有貼濾紙法、涂膏法、浸漬法、陽(yáng)極電介測(cè)鍍層孔隙率法、氣相試驗(yàn)法等。電鍍專(zhuān)業(yè)最新國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)中，孔隙率試驗(yàn)的標(biāo)準(zhǔn)為：GB／T l7721—1999金屬覆蓋層孔隙率試驗(yàn)：鐵試劑試驗(yàn)，GB／T l8179--2000金屬覆蓋層孔隙率試驗(yàn)：潮濕硫(硫化)試驗(yàn)。
