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1) 加熱型化學(xué)氣相蒸鍍
傳統(tǒng)的化學(xué)氣相沉積，必須藉由加熱提供起始的化學(xué)反應(yīng)。
i) 基材加熱：阻抗加熱(適用導(dǎo)電性基材)，熱感應(yīng)加熱，雷射加熱，熱板，輻射加熱(例如，爐管)
ii) 燈絲加熱：例如，在基材上方并設(shè)在反應(yīng)氣體流動(dòng)路徑上的鎢絲。
2) 電漿輔助化學(xué)氣相蒸鍍
(PACVD或PECVD，電漿促進(jìn)化學(xué)氣相蒸鍍)由電漿激發(fā)提供起始化學(xué)反應(yīng)的能量;不需加熱基材且不影響基材的材料性質(zhì)。
3) 光激發(fā)化學(xué)氣相蒸鍍
由紫外光或雷射光提供反應(yīng)所需的能量。
4) 金屬有機(jī)物化學(xué)氣相蒸鍍
主要應(yīng)用于III-V族， II-VI族的化學(xué)氣相蒸鍍。
