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一種在無氧銅基體上鍍黑鉻的鍍液配方及電鍍方法

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核心提示:公開號 102002738公開日 2011.04.06申請人 安徽華東光電技術(shù)研究所地址 安徽省蕪湖市弋江區(qū)高新技術(shù)開發(fā)區(qū)華夏科技園本發(fā)明公開

公開號       102002738

公開日       2011.04.06

申請人  安徽華東光電技術(shù)研究所

地址  安徽省蕪湖市弋江區(qū)高新技術(shù)開發(fā)區(qū)華夏科技園

本發(fā)明公開了一種在無氧銅基體上鍍黑鉻的鍍液配方和電鍍方法,鍍液配方為:鉻酐280 ~ 300 g/L,氟硅酸鉀8 ~ 10 g/L,硝酸2 g/L。電鍍過程包括噴砂、去油、酸洗、鍍黑鉻、在真空爐中進(jìn)行熱處理。本發(fā)明的優(yōu)點在于:通過在無氧銅基體表面鍍上一層均勻致密,附著力牢黑鉻后,增強了收集極對換能后的電子的吸收,減小了次級發(fā)射的電子對慢波部件互作用的影響。

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