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循環(huán)伏安法研究鋅-鈷合金的電沉積過(guò)程

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【簡(jiǎn)介】

 王方剛

(北京青云航空儀表有限公司,北京100086)

摘要:采用循環(huán)伏安法研究了氯化物體系中鋅-鈷合金電鍍的電沉積過(guò)程,采用X-射線厚度和成分分析儀測(cè)量了鋅-鈷合金鍍層的厚度和鈷金屬質(zhì)量分?jǐn)?shù)。試驗(yàn)表明,在氯化鉀鋅-鈷合金電鍍槽液可以電鍍鈷質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.2%~0.4%的鋅-鈷合金,鈷添加劑的加入,能夠使氫的析出電位負(fù)移,擴(kuò)大了鋅-鈷合金沉積的電位區(qū)間范圍。

關(guān)鍵詞:鋅-鈷合金;電鍍;循環(huán)伏安法

中圖分類(lèi)號(hào):TQ153.2文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼:A

文章編號(hào):1001-3849(2011)06-0036-03

引言

鋅合金電鍍是航空工業(yè)重要的防護(hù)性功能鍍層,在航空航天和民用工業(yè)上得到了廣泛的應(yīng)用。鋅-鈷合金是鋅合金中具有較好抗腐蝕性能的鍍種,特別是鈷的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.5%就能表現(xiàn)出杰出的抗腐蝕性能,相比鋅-鎳合金必須含有11%左右的鎳才具有良好的耐腐蝕性能,具有較低的合金成本和同樣明顯的耐腐蝕性能。歐盟上世紀(jì)90年代的試驗(yàn)證明,雖然鋅-鈷合金的耐鹽霧試驗(yàn)水平略低于鋅-鎳合金,但在實(shí)際使用過(guò)程中證明比鋅-鎳合金的耐腐蝕性能還要好[1,3-5]。我國(guó)學(xué)者也對(duì)鋅-鈷合金進(jìn)行了大量的研究,例如哈爾濱工業(yè)大學(xué)、北京航空航天大學(xué)等單位都進(jìn)行了許多研究工作,發(fā)表了一些論文[2,6]。但是,對(duì)于氯化物體系的鋅-鈷合金的電化學(xué)過(guò)程,還有許多工作要做,特別是新型的添加劑對(duì)于鋅和鈷的還原過(guò)程的影響,還沒(méi)有得到深入的探討。本文采用循環(huán)伏安法對(duì)鋅-鈷合金的電沉積過(guò)程進(jìn)行初步的研究。

1·實(shí)驗(yàn)部分

1.1試樣準(zhǔn)備

試樣材料45鋼,規(guī)格為100 mm×50 mm×2mm的薄片,用400#水砂紙對(duì)平面及邊緣進(jìn)行打磨,使表面均勻、光亮。

1.2前處理及施鍍工藝

工藝流程如下:

200#航空汽油清洗→機(jī)械打磨→水洗→電化學(xué)除油→熱水洗→冷水洗→弱腐蝕→冷水洗→中和→冷水洗→鍍鋅-鈷合金→回收處理→冷水洗→一次鈍化→二次鈍化→冷水洗→冷水洗→壓縮空氣吹干→烘干。

試樣準(zhǔn)備好后,按照上述工藝流程進(jìn)行前處理,然后在鋅-鈷合金鍍液中進(jìn)行電鍍,獲得良好的鋅-鈷合金鍍層。

鋅-鈷合金鍍液的配方為:

氯化鋅 60~80 g/L

氯化鉀 180~220 g/L

硼酸 25~35 g/L

BZN928 0.5~1.0mL/L

BZN930 20mL/L

BCO908 20mL/L

pH 4.5~5.5

θ 15~50℃

Jκ 0.5~3.5A/dm2

BZN928是鋅-鈷合金光亮劑用于提高鍍層的光亮度,BZN930是開(kāi)缸劑用于提高鍍層的分散性能和深鍍能力,BCO908是鈷的絡(luò)合溶液用于增加鈷金屬的含量。

1.3試驗(yàn)設(shè)備和試驗(yàn)方法

1)采用上海麗榮公司的DDK 10A/10V型霍爾槽試驗(yàn)儀和267mL的標(biāo)準(zhǔn)霍爾槽進(jìn)行試驗(yàn)。

2)采用上海辰華儀器公司生產(chǎn)的CHI 604A型電化學(xué)分析儀(工作站)和三電極體系(雙鉑電極和甘汞電極),對(duì)沒(méi)有加任何添加劑的基礎(chǔ)溶液和添加了開(kāi)缸劑BZN 930和光亮劑BZN 928以及添加了鈷鹽的溶液分別測(cè)量循環(huán)伏安曲線,掃描速率為0.05V/s。

3)采用德國(guó)生產(chǎn)的FMC-X-PENT測(cè)厚和成分分析儀,測(cè)量采用上述工藝獲得的霍爾槽試片,厚度和鈷金屬的含量。

2·試驗(yàn)數(shù)據(jù)和分析

2.1鈷質(zhì)量分?jǐn)?shù)分析

鋅-鈷合金電鍍霍爾槽試片的鈷金屬?gòu)牡碗娏髅芏葏^(qū)到高電流密度區(qū)的分布圖見(jiàn)圖1。從圖1可以看出在整個(gè)鍍層中都沉積了鈷金屬,而且鈷含量隨著電流密度的增大而增加。

2.2電鍍鋅-鈷合金霍爾槽試片的厚度分布

從圖2可以看出,鋅-鈷合金電鍍霍爾槽試片高電流密度區(qū)厚度為22μm,低電流密度區(qū)的厚度為2.98μm,兩者的比值為7.38,可以說(shuō)分散能力能夠滿足工藝要求。

2.3基礎(chǔ)溶液的循環(huán)伏安曲線

如圖3所示,基礎(chǔ)溶液作相應(yīng)的循環(huán)伏安曲線掃描,沒(méi)有添加加開(kāi)缸劑930、光亮劑928和鈷添加劑BCO的時(shí)候,基礎(chǔ)溶液的循環(huán)伏安曲線是典型的馬鞍型,鋅的還原電位(Zn2+還原為Zn的電位)在-1.1V,最高的電流的電位在-1.5V,-1.65V開(kāi)始產(chǎn)生析氫反應(yīng)。

2.4基礎(chǔ)溶液加開(kāi)缸劑和光亮劑后的循環(huán)伏安曲線

如圖4所示,加入了酸性鍍鋅的開(kāi)缸劑930和光亮劑928后,可以明顯的看到產(chǎn)生了極化現(xiàn)象,鋅的還原電位從-1.1伏極化到-1.4伏,極化幅度達(dá)到300毫伏,氫的析出電位也降低到-1.85伏左右。極化現(xiàn)象的產(chǎn)生,導(dǎo)致結(jié)晶細(xì)致,表面光亮。與參考文獻(xiàn)[7]的闡述完全一致。

2.5基礎(chǔ)溶液加開(kāi)缸劑和光亮劑再加鈷添加劑后的循環(huán)伏安曲線

如圖5所示,可以看出,鋅的還原電位提高到-1.2V,鋅的最大還原電流在-1.6V,但氫的析出電位負(fù)移到-2.0V以后。可見(jiàn)鈷添加劑的加入改變了整個(gè)溶液的鋅和氫的還原電位,在-1.8V左右,可以看到曲線有一個(gè)的突起,這里可能就是鈷的還原電位。

3·結(jié)論

通過(guò)上述分析,得出以下結(jié)論:

1)采用氯化鉀體系的酸性鍍鋅體系加入適當(dāng)?shù)奶砑觿軌蝈兂鲣\-鈷合金鍍層。

2)氯化鉀體系的鋅-鈷合金鍍層的鈷在0.2%~0.4%之間。

3)氯化鉀體系的添加劑,使鋅的還原電位負(fù)移,從而產(chǎn)生極化,導(dǎo)致結(jié)晶細(xì)致,產(chǎn)生光亮作用。

4)鈷添加劑的加入降低了氫的析出電位,增加了鋅-鈷合金沉積的電位區(qū)間。

參考文獻(xiàn)

[1]木夏本英彥,小見(jiàn)崇著.合金電鍍[M].北京:航空工業(yè)出版社,1989.79.

[2]Shears AP.Zinc-cobolt deposits from an acidchloride e-lectrolyte

[J].Tranns.IMF,1989,67(67):69.

[3]Douglas E Lay CEF Willam E.Eckles.The Fundamentalof Zinc/cobalt

[J].Plat.Surf.Finish,1990,77(10):10.

[4]屠振密,李文良,楊哲良.電鍍鋅-鈷合金的現(xiàn)狀與發(fā)展[J].材料保護(hù),1992,28(05):42.

[5]David Crotty Zinc Alloy Plating for the Auto-motive Indus-try Met

[J].Fin,1996,94(9):54.

[6]郭鶴桐.復(fù)合鍍層-復(fù)合材料中的一支新軍[J].材料保護(hù),1990,(1-2):55.

[7]吳純素,黃子勛.電鍍?cè)?/strong>[M].北京:機(jī)械工業(yè)出版社,1986:107.

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