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無斷差的局部電鍍方法.pdf

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2012-02-17??瀏覽次數(shù):322 ??關(guān)注:加關(guān)注
核心提示:無斷差的局部電鍍方法

【專利號(申請?zhí)?】200710106079.6

【公開(公告)號】CN101314863

【申請人(專利權(quán))】金藝企業(yè)股份有限公司

【申請日期】2007-5-31 0:00:00

【公開(公告)日】2008-12-3 0:00:00

【專利簡介】

 

本發(fā)明是一種無斷差的局部電鍍方法,適用于被鍍物表面局部存在有斷面不平整,為避免產(chǎn)生尖端效應(yīng),的一種電鍍方法是在一通電電鍍處理制程中,在電鍍液中利用至少一導(dǎo)體,靠近至少一被鍍對象表面存在的邊緣交界處相對應(yīng)位置;上述所述的導(dǎo)體與被鍍物之間,形成局部感應(yīng)分散其表面因電力線過于集中邊緣,使沉積物不會(huì)過于集中在邊緣使局部鍍層加厚,均勻的散布在所述的被鍍物的表面,達(dá)到被鍍對象表面均勻平整無斷差。

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