電鍍鉛錫層狀合金膜的制造工藝

【專利號(hào)(申請(qǐng)?zhí)?】200610017874.3

【公開(kāi)(公告)號(hào)】CN1888144

【申請(qǐng)人(專利權(quán))】中原工學(xué)院

【申請(qǐng)日期】2006-5-31 0:00:00

【公開(kāi)(公告)日】2007-1-3 0:00:00

【專利簡(jiǎn)介】

    本發(fā)明涉及一種鉛錫層狀合金膜的制造工藝，該工藝分別測(cè)定鉛、錫的沉積電位V_Pb和V_sn，然后使用可控脈沖電鍍電源電鍍，脈沖電壓V₁為|V_Pb| ＜|V₁|＜|V_sn|，脈沖電壓V₂為|V₂|＞|V_sn|，每個(gè)脈沖間要留置一段時(shí)間的零電壓脈沖，克服了現(xiàn)有雙槽電鍍法制造層狀合金膜的復(fù)雜工序，設(shè)計(jì)了一種在同一槽中分別沉積鉛和鉛-錫合金從而形成鉛錫層狀合金膜的單槽電鍍法，該工藝?yán)勉U、錫不同的沉積電位，通過(guò)調(diào)節(jié)外加電壓從而分別控制不同金屬的沉積，和原有工藝相比，工藝簡(jiǎn)單，操作簡(jiǎn)便，并且能制造厚度小于100納米的合金膜，更有利于工業(yè)推廣。