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【專利號(申請?zhí)?】97247491.9
【公開(公告)號】CN2317235
【申請人(專利權(quán))】中國科學(xué)院等離子體物理研究所
【申請日期】1997-10-11 0:00:00
【公開(公告)日】1999-5-5 0:00:00
本實用新型公開了一種軸瓦減摩層真空鍍膜機的結(jié)構(gòu)：在扁圓形真空室內(nèi)安有旋轉(zhuǎn)磁控靶，其外圈是靶材料；真空室內(nèi)還裝有主、從動輪，其上支撐著傳動鏈，軸瓦架緊固在傳動鏈上；等離子體處理電極安裝在從動輪的中心；真空規(guī)管裝在真空室頂上，進氣管從真空室頂部伸入其內(nèi)，用本實用新型鍍覆的軸瓦減摩層，膜層致密、無雜質(zhì)，與基底結(jié)合力強，耐疲勞強度等級更高，完全克服了電鍍時形成的惡劣的工作環(huán)境及對環(huán)境的污染。
