??
【專利號(申請?zhí)?】200310109860.0
【公開(公告)號】CN1635613
【申請人(專利權(quán))】中芯國際集成電路制造（上海）有限公司
【申請日期】2003-12-30 0:00:00
【公開(公告)日】2005-7-6 0:00:00
一種避免漩渦效應(yīng)缺陷(swirl defect)的方法，包括步驟：以物理氣相沉積法(PVD)形成銅種子層(seeding layer)于一底材之上；將形成的銅種子層儲存于POD之中以阻隔氧氣或其它有機(jī)氣體與銅反應(yīng)；將該底材加載一旋轉(zhuǎn)裝置中于進(jìn)行干旋轉(zhuǎn)(于空氣中旋轉(zhuǎn))；以化學(xué)電鍍(electrical chemical plating)技術(shù)在該P(yáng)VD種子層(seeding layer)上形成所要厚度的銅薄膜。
