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形成金屬涂層的方法和制造芯片電子元件的方法.pdf

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2008-01-03??瀏覽次數(shù):316 ??關(guān)注:加關(guān)注
核心提示:形成金屬涂層的方法和制造芯片電子元件的方法.pdf

【專利號(hào)(申請(qǐng)?zhí)?】200310101382.9

【公開(kāi)(公告)號(hào)】CN1497623

【申請(qǐng)人(專利權(quán))】株式會(huì)社村田制作所

【申請(qǐng)日期】2003-10-16 0:00:00

【公開(kāi)(公告)日】2004-5-19 0:00:00

 執(zhí)行一種形成金屬涂層的方法和一種制造芯片電子元件的方法,從而,在不損害工作環(huán)境安全的情況下,通過(guò)使用一種易于除去的涂層,可容易地形成布線圖案或外部電極。所述方法包括下列步驟:利用可溶解在主要包括酒精的水洗溶液中的油墨涂料,在組成元件表面上形成涂層;通過(guò)噴射過(guò)程除去設(shè)置在將形成外部電極的兩端上的涂層;在整個(gè)組成元件上形成無(wú)電鍍金屬涂層;以及沖洗所產(chǎn)生的組成元件,以便除去設(shè)置在不形成外部電極的區(qū)域上的涂層和附著在其上的無(wú)電鍍金屬涂層。

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