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【專利號(申請?zhí)?】200510045678.2
【公開(公告)號】CN1644752
【申請人(專利權(quán))】大連理工大學(xué)
【申請日期】2005-1-15 0:00:00
【公開(公告)日】2005-7-27 0:00:00
物理氣相沉積領(lǐng)域中的黃銅件真空離子鍍替代電鍍方法，包括黃銅件、拋光、清洗、烘烤、爐體真空室、脈沖負(fù)偏壓、靶材，特征：在黃銅件[3]與真空室[9]之間，加有脈沖負(fù)偏壓，其占空比為10-30％，電壓為100-2000V，頻率為40KHz；替代電鍍鎳的離子鍍中間層，是在純金屬鈦及其合金或鋯及其合金上，還鍍有氮化鈦或氮化鋯，并在離子鍍的中間層與黃銅件之間有1-2 μm的過渡層；工藝：拋光后經(jīng)超聲清洗、裝爐抽真空，烘烤、濺射清洗、離子鍍中間層，之后，或離子鍍制備成品，或經(jīng)離子鍍TiN(或ZrN)后制備成品。優(yōu)點：①膜層中沒有Ni元素，無害；②沒有三廢無須治理；③鍍層附著性好，致密性好，耐蝕性強；④色澤好光亮不起朦，裝飾性好。
