鋁在什么條件下可直接電鍍？

鋁上直接電鍍往往只適用于一些特定場合，目前在工業(yè)中得到應(yīng)用的有如下幾種：

1）鋁經(jīng)吹砂，使表面產(chǎn)生微坑，再經(jīng)脫脂、出光后直接帶電入鍍鉻槽進(jìn)行鍍鉻。在開始的2～4min用高電流密度閃鍍。

2）鋁在硫酸150～250g/L溶液中。于室溫下浸0.5～1min后，在下面規(guī)范下進(jìn)行焦磷酸鹽鍍銅：

硫酸銅（CuSO_4·5H₂O）                       30～50 g/L

焦磷酸鈉（Na₄P₂O_7·10H₂O）                 120～145g/L

磷酸氫二鈉（Na₂HPO_4·12H₂O）               60～100g/L

溫度                                        50～60℃

pH值                                        7.5～8.0

電流密度                                1.2～1.7A/dm²

用壓縮空氣控制攪拌。也可在室溫下電鍍，但其電流密度不能大于1A/dm²。

3）鋁直接鍍銅的另一種方法是在適合的酸性鍍銅溶液中先對鋁進(jìn)行陽極氧化使其表面生成一種多孔的氧化膜。然后逆轉(zhuǎn)電流在此氧化膜上的電鍍銅，其工藝規(guī)范如下：

硫酸（H₂ SO₄ ）                                           90～110g/L

硫酸銅（CuSO_4·5H₂O）                      120～200g/L

主添加劑                                   0.5~0.8ml/L

輔助添加劑                                 0.1~0.2ml/L

溫度                                         25～30℃

陰極電流密度                             0.2～2.0A/dm²

時間                                        15～20min

此法工藝簡單，適用于除高純鋁以外的所有鋁及鋁合金零件。由于在陽極氧化時，零件表面會生成氧化膜，所以其抗蝕性也有所提高。但因陽極氧化時零件的表面粗糙度會有所提高，故不宜用于要求低粗糙度的零件。

4）鋁在碳酸鈉10g/L、磷酸鈉10g/L溶液中，在60℃下浸10～20s可按如下規(guī)范直接鍍鎳：

硫酸鎳（NiSO_4·7H₂O）                            200g/L

氟硼酸鎳[Ni(BF₄)₂]                                66g/L

氯化鎳（NiCl_2·6H₂O）                              1g/L

硼酸（H₃BO₃）                                   20g/L

溫度                                         65～75℃

pH值                                              1.0

電流密度                                      2～3A/dm²

注意Cl^-含量不能過高，以防基材受到浸蝕。