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硬盤與碟片電鍍:鋁上直接鍍化學鎳

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2012-01-12??瀏覽次數(shù):325 ??關(guān)注:加關(guān)注
核心提示:硬盤與碟片電鍍:鋁上直接鍍化學鎳

    由于浸鋅工藝采用了濃堿,對基體會造成微觀腐蝕,作為一種改進是采用酸性化學浸鋅工藝,但鍍覆的時間比堿性液要長,對于具有兩性金屬性質(zhì)的鋁來說,也存在基體置換腐蝕的危險,因而更進一步的改進是在鋁上直接化學鍍鎳。一種直接化學鍍鎳工藝是采用雙還原劑的酸性化學鍍鎳磷硼:

硫酸鎳

85gL

硼氫化鈉

04gL

甲酸

28gL

pH

55

次磷酸鈉

21gL

溫度

80℃

這種工藝減少了化學鍍鎳的工序操作流程,從而使生產(chǎn)效率有所提高,但還不是硬盤表面膜結(jié)構(gòu)的根本性改進。

 

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