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電鍍自焊接三維微電極陣列方法

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2015-04-09??來源:中國電鍍網(wǎng)??瀏覽次數(shù):678 ??關注:加關注
核心提示:申請?zhí)枺?00810034328.X名稱:電鍍自焊接三維微電極陣列方法公開(公告)號:CN101240435公開(公告)日:2008.

申請?zhí)枺?00810034328.X

名稱:電鍍自焊接三維微電極陣列方法

公開(公告)號:CN101240435

公開(公告)日:2008.08.13

主分類號:C25D2/00(2006.01)I

申請(專利權)人:復旦大學

地址:200433上海市邯鄲路220號

發(fā)明(設計)人:呂尊實;周嘉;高安;紀新明;黃宜平

專利代理機構:上海正旦專利代理有限公司

代理人:陸飛;盛志范

摘要

本發(fā)明屬于微電極制備技術領域,具體涉及電鍍自焊接三維微電極的方法。其步驟是把微電極穿過金屬微孔,并固定在插槽中;對微金屬孔進行電鍍,使金屬孔逐漸變小,直到與穿過微金屬孔的微電極結(jié)合在一起,從而實現(xiàn)了微電極與微金屬孔的自焊接。這種焊接方法可以輕松實現(xiàn)金屬微電極陣列與微金屬孔的立體焊接,效果很好,并且方法簡單,成本也較低。

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關鍵詞: 電鍍 金屬
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