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該成果適用于紅外光學(xué)系統(tǒng)鍺、硅光學(xué)另件作增透膜，它采用離子鍍技術(shù)鍍制硫化鋅薄膜，從而提高了硫化鋅薄膜的耐磨性和抗潮性、即提高了鍺硅光學(xué)另件對(duì)惡劣環(huán)境的適用性。鍍制這種增透膜的鍺硅光學(xué)另件的透光性能與用普通熱蒸發(fā)法一致，耐磨性能提高一倍，抗潮性能提高8倍以上。
完成單位：電子工業(yè)部第十一研究所
成果類別：應(yīng)用技術(shù)
限制使用：國(guó)內(nèi)
成果密級(jí)：非密
鑒定日期：19850000
應(yīng)用行業(yè)：基礎(chǔ)化學(xué)原料制造
鑒定部門：電子部第十一所
分類號(hào)：TQ132.41
關(guān)鍵詞：耐磨性能 光學(xué)增透膜 硫化鋅薄膜 硫化鋅 硫化物
