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如何用霍爾槽做金屬雜質(zhì)影響和排除的試驗(yàn)?

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2011-07-07??瀏覽次數(shù):300 ??關(guān)注:加關(guān)注
核心提示:如何用霍爾槽做金屬雜質(zhì)影響和排除的試驗(yàn)?

    用霍爾槽做金屬雜質(zhì)的影響的試驗(yàn)可以有兩種方法:一是空白對(duì)比試驗(yàn)法;另一種是故障鍍液排除法。

    空白試驗(yàn)法是先將懷疑有雜質(zhì)影響的鍍液做出一個(gè)霍爾槽試片,留作對(duì)比用。再取新配的與鍍液相同組成和含量的試驗(yàn)液做出空白試片,再往里加入已知的雜質(zhì)金屬,對(duì)比已知雜質(zhì)含量試片與故障鍍液試片,直到找到與故障鍍液相同的試片條件,即可測(cè)知鍍液中金屬雜質(zhì)的類(lèi)別。這種空白對(duì)比試驗(yàn)法由于采用的是已知雜質(zhì)的添加法,所以結(jié)果和雜質(zhì)的量都可以準(zhǔn)確地測(cè)出。但是,這種方法只適合對(duì)鍍液中的雜質(zhì)是什么有大致的了解,或已經(jīng)知道雜質(zhì)是什么而要確定含量大約是多少。如果對(duì)雜質(zhì)是什么無(wú)法估計(jì),用空白試驗(yàn)的效率就會(huì)很低了。

    利用霍爾槽可以對(duì)有雜質(zhì)影響的故障鍍液直接進(jìn)行排除試驗(yàn)。首先也是取故障鍍液做出故障液的現(xiàn)狀試片,然后對(duì)鍍液進(jìn)行雜質(zhì)排除的例行處理,例如小電流電解一定時(shí)間后,再用電解后的鍍液做霍爾槽試驗(yàn),如果有所好轉(zhuǎn),則可以進(jìn)一步確定電解時(shí)間來(lái)最終排除,如果作用不明顯,則要采用其他排除法,比如金屬置換沉淀法,這在鍍鋅中常用到,用鋅粉可以將其他重金屬雜質(zhì)還原出來(lái)沉淀排除。總之,每采取一種措施,就用處理后的鍍液做一次霍爾槽試驗(yàn),以驗(yàn)證處理結(jié)果。由于一片霍爾槽試片所傳達(dá)的信息比一般試鍍要多得多,所以采用霍爾槽試驗(yàn)來(lái)排除雜質(zhì)有事半功倍之效。

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