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真空鍍主要包括真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型，它們都是采用在真空條件下，通過蒸餾或?yàn)R射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時(shí)具有速度快附著力好的突出優(yōu)點(diǎn)，但是價(jià)格也較高，可以進(jìn)行操作的金屬類型較少，一般用來作較高檔產(chǎn)品的功能性鍍層，例如作為內(nèi)部屏蔽層使用。
真空蒸鍍：在高真空下，通過金屬細(xì)絲的蒸發(fā)和凝結(jié)，使金屬薄層附著在塑膠表面。 真空蒸鍍過程中金屬(最常用的鋁)的熔融，蒸發(fā)僅需幾秒鐘，整個(gè)周期一般不超過15MM，鍍層厚度為0.8-1.2uM.
設(shè)計(jì)真空蒸鍍塑料制品應(yīng)避免大的平坦表面，銳角和銳邊。凹凸圖案、紋理或拱形表面效果最佳。真空蒸鍍很難獲得光學(xué)平面樣制品表面。
真空鍍不導(dǎo)電。鍍層附著力比水鍍差很多。
