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| 登記號 | 粵科成登字20010527 |
| 登記日期 | 01-10-16 |
| 成果名稱 | JT－S1500磁控鍍膜設備 |
| 成果狀態(tài) | 已批準項目 |
| 完成單位 | 廣東真空設備廠股份有限公司 |
| 研究人員 | 蔡東鋒,梁凱基,馮其元,聶廷森,宋興文,陳頌華,程 輝,梁深瑞 |
| 研究時間 | 1999.01 至2001.04 |
| 鑒定單位 | 廣東省科技廳 |
| 鑒定日期 | 2001.04.29 |
| 成果應用行業(yè) | |
| 高新科技領域 | |
| 學科分類 | 、 |
| 簡介 | JT-S1500磁控鍍膜設備是我公司開發(fā)的新型多功能鍍膜設備。它瞄準了現有磁控鍍膜設備所存在的工件效率不高，加工適應范圍不廣等問題，經充分考慮而成，設備設計起點高，結構先進、合理，設計了一套可靠的大功率磁控靶與電阻蒸發(fā)相結合的蒸鍍裝置。電控系統采用先進的可編程控制器，配以優(yōu)質的電器元件、執(zhí)行元件，確保各控制動作靈敏、可靠。設備總體布局緊湊、真空系統選配合理、抽速大、膜層均勻、附著力強、工作穩(wěn)定、工藝參數調整容易，鍍膜產品質量高。本設備主要用于各種金屬、非金屬工件的表面裝飾性鍍膜加工，若再配上離子源等裝置，還可以進行工具、刀具等強化處理加工，延長工具的使用壽命。 設備研制要求和實際達到的主要性能指標如下：序號指 標研 制 要 求實 測 值1極限壓力≤5×10－3Pa2×10-3Pa2工作壓力 3×10－1Pa 3×10-1Pa3空載抽氣時間大氣至2×10－2Pa：≤10min8min4鍍膜玻璃尺寸（最大）Ф460×1650mm（6軸）Ф460×1650mm5磁控濺射靶116濺射靶電源100kW 80kW7總功率172kW122kW本設備采用了多項新技術，確保了產品的先進性。 1、電阻蒸發(fā)與磁控濺射可靠結合，這樣同一臺設備不僅可蒸鍍常用低熔點金屬、非金屬材料，如在塑料上蒸鍍裝飾性鋁膜等；還可加工難熔、高硬度金屬，如鍍銅膜、鈦膜、超硬膜、合金膜等。 2、采用新型高效磁控靶，靶濺射速率高，保證了膜層的均勻性，并且可生產出優(yōu)質的鍍膜產品。 3、采用可編程控制器對設備進行自動控制，動作可靠，并且容易進行工藝參數調整，設備適用性廣。 4、采取一機雙門結構和大抽速機組，確保了整機很高的工作效率。工件的表面裝飾性磁控鍍膜加工，是一種物理加工方法，無廢氣及腐蝕性等污染物排放，不污染環(huán)境。鍍膜質量已在一定程度上達到傳統化學電鍍的鍍膜質量，并將逐步完全取代之。這樣，可有效地大幅減少環(huán)境污染，保護生態(tài)環(huán)境，促進國家資源的可持續(xù)利用。但是，國外先進的同類設備，已實現全電腦膜厚檢測，且能對鍍膜工藝參數實時在線控制，隨時自動調整工藝參數，確保鍍膜質量一致，產品質量比國產設備高。本設備在這方面存在一定的差距，需逐步完善。 |
