氰化鍍鎘層發(fā)暗

    鍍出鎘層發(fā)暗通常與溶液被金屬雜質(zhì)污染有關(guān)，氰化鍍鎘溶液中的金屬雜質(zhì)比鍍鋅溶液的敏感性強，有害的金屬雜質(zhì)主要有錫、鉛、銻、砷等。

    金屬雜質(zhì)的除去可采用瓦楞形陰極，以O．1～0．3A／dm²的電流密度電解凈化，這一方法操作簡便，根據(jù)需要隨時可以處理。

    為保證溶液潔凈，維護(hù)正常生產(chǎn)，要加強對溶液的維護(hù)，防止有害雜質(zhì)的混入。