RK-J303寬溫堿性環(huán)保鍍鋅工藝

1、在鋅酸鹽鍍液0-55℃范圍內(nèi)均可獲得光亮細(xì)致的鍍層；

2、分散能力（均鍍性）和覆蓋能力俱佳；

3、出光速度快，光亮范圍寬；

4、電流效率高、鍍層應(yīng)力低（不起泡、不脫皮）；

5、鍍液性能穩(wěn)定，易于管理；

6、轉(zhuǎn)換簡單，原含氰堿性鍍液可直接轉(zhuǎn)換；

7、在氰化鍍液中，也能在10-65℃范圍內(nèi)同樣出色表現(xiàn)。

二、工藝范圍

三、鍍液配制及工藝特點(diǎn)

    采用高純度的氧化鋅及氫氧化鈉，防止雜質(zhì)帶入是配置好鍍液的關(guān)鍵。配制時先準(zhǔn)備總量1/3的水，將氫氧化鈉逐批（每批加入時，前批要溶解好）加入其中，攪拌充分溶解。溶解完畢后趁熱將用水調(diào)成糊狀的氧化鋅逐批（每批加入時，前批要溶解好）加入其中，充分?jǐn)嚢柚裂趸\全部溶解，加水至所需的體積，并攪拌均勻。為消除因有微量金屬雜質(zhì)而引起的不良鍍層，鍍液配好后一般采用小電流密度電解（0.1-0.15A/d㎡陰極用瓦楞鐵板），也可以同時加入專用除雜劑12克/升凈化，最后加入計(jì)量好的添加劑，攪拌均勻試鍍。

四、鍍液的維護(hù)與管理

   1、嚴(yán)格控制所加原料的雜質(zhì)含量，特別是影響鍍層質(zhì)量（如霧狀）較大的鉛、鐵、銅等微量金屬雜質(zhì)，槽液每隔12個月用專用除雜劑12克/L凈化處理一次。

   2、定期分析氧化鋅和氫氧化鈉的含量，并使氫氧化鈉和氧化鋅保持一定的比例。一般掛鍍應(yīng)控制氫氧化鈉：氧化鋅（重量比）=10:1；滾鍍應(yīng)控制氫氧化鈉：氧化鋅（重量比）12:1，并在生產(chǎn)時經(jīng)常以赫爾槽試驗(yàn)或理化檢測來檢測鍍液是否處于正常工作狀態(tài)。

3、堿性鍍鋅使用的陽極面積應(yīng)比氰化鍍鋅相應(yīng)大些，通常陽極面積：陰極面積=1.52:1。金屬鋅在溶液中的溶解量，取決于氫氧化鈉在鍍液中的濃度、陽極面積、溫度、攪拌強(qiáng)度、帶出和帶入量及電流效率，當(dāng)鋅含量較高而氫氧化鈉含量正常時，可改用鐵板或鎳板代替鋅陽極，以降低鋅含量。建議停鍍時必須部分或全部取出鋅陽極，以防止鍍液內(nèi)鋅含量升高。

4、本工藝的操作溫度，雖然可在0-55℃范圍內(nèi)獲得光亮細(xì)致的鍍層，但若保持20-35℃之內(nèi)，可獲得最佳的鍍速、走位能力和光亮度及最佳導(dǎo)電性能。溫度太高，光亮劑消耗量增大，低電流區(qū)不易光亮，覆蓋及分散能力也會變差；溫度太低，會使電流效率降低。

五、原鋅酸鹽或氰化鍍液的轉(zhuǎn)換

原使用DE、DPE、WA等鋅酸鹽，無須處理槽液，直接改加RK-J303寬溫度堿性環(huán)保鍍鋅添加劑即可，具體方法如下：

1、停止加入原來的添加劑，加入專用除雜劑0.52克/升凈化處理，根據(jù)光亮度的需要逐漸加入RK-J303添加劑16毫升/升，然后按正常消耗量補(bǔ)加，經(jīng)過一段時間后，即可達(dá)到RK-J303鋅酸鹽鍍鋅的優(yōu)異性能。

2、采用赫爾槽轉(zhuǎn)換最為穩(wěn)妥，既先將鍍液中的氧化鋅和氫氧化鈉的含量調(diào)整到工藝規(guī)定的范圍內(nèi)，在赫爾槽中先添加除雜劑0.52克/升凈化處理，再添加RK-J303添加劑，由0.25ml慢加到1.5ml，用電流2A，5-7min作試片，查驗(yàn)是否與RK-J303添加劑有不能兼容的現(xiàn)象，主要看是否有條紋產(chǎn)生、斑點(diǎn)與白霧不亮鍍層等。如可兼容，重復(fù)2A，5-7min作試片，以確定最佳RK-J303添加劑加入量，加入要轉(zhuǎn)換的鍍槽即可。

3、氰化鍍鋅在逐步停加氰化物，轉(zhuǎn)換成鋅酸鹽的過程中，要注意氧化鋅和氫氧化鈉的重要比在規(guī)定范圍內(nèi)。