機(jī)械拋光件直接陽極氧化后為何不能獲得光亮表面？

有研究者認(rèn)為，拋光是金屬從凸處移到凹處，形成無定形層，或很細(xì)的金屬晶體層；也有研究者用電子顯微鏡的研究證實(shí)，拋光表面的外層被粉碎成不規(guī)則的，很細(xì)的結(jié)晶狀態(tài)，等等。而化學(xué)拋光和電化學(xué)拋光的反應(yīng)機(jī)理的簡單說法是：對鋁或鋁合金制件的微觀凹凸不平的表面組織(包括金屬鋁成分)進(jìn)行選擇性的溶解，來有效地整平和拋光制件表面，從而提高其表面光潔度。因而對鋁及其合金來說，機(jī)械拋光雖能獲得平整度，卻不能獲得類似化學(xué)或電化學(xué)拋光的光亮度。為此機(jī)械拋光后直接進(jìn)行陽極氧化所獲的膜層是無金屬光澤的，甚至比不上未經(jīng)機(jī)械拋光部位，猶如搪瓷、油漆層。

機(jī)械拋光雖然不能替代化學(xué)拋光和電化學(xué)拋光，但化學(xué)拋光、電化學(xué)拋光之前先經(jīng)機(jī)械拋光還是十分必要的，材料表面的劃痕等損傷部位如未經(jīng)機(jī)械拋光，在化學(xué)或電化學(xué)拋光工序中是無法除去的。