滾鍍滾筒的轉(zhuǎn)速對(duì)電沉積有何影響?

滾筒的最佳轉(zhuǎn)速與鍍種、鍍筒直徑及表面光澤度要求等有關(guān)。選用滾筒轉(zhuǎn)速時(shí)，首先考慮鍍種光澤度要求，其次考慮滾筒直徑。滾筒轉(zhuǎn)速慢，能提高電沉積速度(如鍍鋅的滾筒轉(zhuǎn)速可取3～7r／min)。滾筒轉(zhuǎn)速快，能提高鍍層光澤(如鍍光亮銅、光亮鎳的滾筒轉(zhuǎn)速可取10～12r／min)，但電沉積速度下降，可用增加濃度、提高溫度和電流密度等方法來補(bǔ)救。滾筒直徑較大時(shí)，應(yīng)取下限轉(zhuǎn)速。